SUSS Aligner
「SUSS Aligner」熱門搜尋資訊
「SUSS Aligner」文章包含有：「自動光罩對準曝光機」、「MaskAligner」、「MA300Gen3掩模對準器」、「MaskAligner」、「MA200Gen3掩模對準器」、「MJB4掩模對準器」、「ManualmaskalignerMJB4」、「MA300Gen3Mask」、「MABAGen4系列掩模和鍵合對準器」、「MA200Gen3MaskAligner」
查看更多
自動光罩對準曝光機
https://www.suss.com
SUSS MicroTec的光罩與接合對準平臺，能夠對光罩到晶圓、晶圓到晶圓的操作進行高精度對準。該設備可加工任何材料種類、300 mm以下尺寸的基板和晶圓。通過多種附加功能，光 ...
Mask Aligner
https://www.suss.com
The SUSS MicroTec Mask Aligner has become synonymous with superior quality, high alignment accuracy, and sophisticated exposure optics. SUSS MicroTec offers a ...
MA300 Gen3 掩模對準器
https://www.suss.com
MA300代表了SUSS所生產的新一世代光罩對準曝光機，其設計時即是要滿足具有大量量產製造環境的高階晶圓廠的需求。 強調. 全場域強度90mW/cm²(寬頻帶); 在300mm 上低至2.5 ...
Mask Aligner
https://www.suss.com
SÜSS MicroTec 的掩模对准器系统主要用于MEMS、先进封装、三维封装、化合物半导体、功率器件、太阳能、纳米技术和晶圆片级光学系统等领域的光刻应用。 SUSS MicroTec 的掩 ...
MA200 Gen3 掩模對準器
https://www.suss.com
SUSS MicroTec的光罩對準曝光機，是基於接近式曝光技術的。 性能與優點. 由於採用了減少衍射的光學技術，具有卓越的解析度; 使用微透鏡光學系統，實現了製程 ...
MJB4掩模對準器
https://www.suss.com
MO Exposure Optics®是一種為SUSS光罩對準機專門設計的獨特的照明光學器件。它基於微型透鏡板，而不是宏觀的透鏡元件。通過簡單的隨插即用，可以在不同的角度設置之間快速 ...
Manual mask aligner MJB4
https://www.suss.com
SUSS mask aligners are equipped with a WEC head system that allows reaching the parallelism between substrate and mask with a micrometric precision. Available ...
MA300 Gen3 Mask
https://www.suss.com
SUSS MicroTec's MA300 Gen3 is a highly automated mask alignment platform for 300 mm and 200 mm wafers. It is specifically designed for 3D Packaging, wafer-level ...
MABA Gen4 系列掩模和鍵合對準器
https://www.suss.com
第4 代專業級MA/BA 系列係為SÜSS MicroTecs 旗下半自動式光罩對準曝光機之多方位裝置平臺，並提供包羅萬象的運用潛力。此對準器適用於150 及200 mm 以下的基板尺寸。
MA200 Gen3 Mask Aligner
https://www.suss.com
Specially designed for high-volume production the MA200 Gen3 mask aligner is suited for the automated processing of square substrates and wafers up to 200 mm.